[发明专利]图形化蓝宝石衬底的制作方法无效
| 申请号： | 201010604424.0 | 申请日： | 2010-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN102157629A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 谢雪峰;李明远;郭爱华 | 申请（专利权）人： | 长治虹源科技晶体有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;G03F7/20;G03F7/40 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 林俭良 |
| 地址： | 046000 山西省*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种图形化蓝宝石衬底的制作方法，包括步骤：对待光刻的衬底进行匀胶处理；将掩模板与所述衬底对准安装，并将所述掩模板按设定距离设置在所述衬底上方；根据预设的曝光条件进行投影曝光；对曝光后的衬底进行显影处理；对显影后的衬底进行烘烤处理，将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜；设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后，将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上；通入刻蚀气体对衬底进行刻蚀，通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量；同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却。采用本方法图形衬底生产率高，使用该衬底生产的芯片出光效率高且稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 蓝宝石 衬底 制作方法 | ||
【主权项】：
一种图形化蓝宝石衬底的制作方法，其特征在于，包括步骤：S1、对待光刻的衬底进行匀胶处理；S2、将掩模板与所述衬底对准安装，并将所述掩模板按设定距离设置在所述衬底上方；S3、根据预设的曝光条件进行投影曝光；S4、对曝光后的衬底进行显影处理；S5、对显影后的衬底进行烘烤处理，将衬底表面的光刻胶作为刻蚀的掩膜；S6、设定刻蚀腔的温度和真空度、屏蔽罩的温度以及冷却循环机的控制温度后，将烘烤处理后的衬底放入刻蚀腔中的载片基台上；S7、通入刻蚀气体对衬底进行刻蚀，通过阳极射频源功率和偏压射频源功率控制刻蚀速度和质量；同时通过所述冷却循环机对所述载片基台进行冷却。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长治虹源科技晶体有限公司，未经长治虹源科技晶体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010604424.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：有关电润湿元件的改进
- 下一篇：用于去向和来自密封装置的制造后数据传输的方法
