[发明专利]一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统无效
| 申请号： | 201010605515.6 | 申请日： | 2010-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102087483A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 陈铭勇;胡松;李艳丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G02B27/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统，检焦标记和投影成像系统位于照明系统和多次反射棱镜之间，被检测面位于多次反射棱镜和反射镜之间，检焦标记放大系统位于反射镜和探测器件之间；投影成像系统与照明系统匹配为照明检焦标记提供照明光，多次反射棱镜将照明系统的照明检焦标记的入射光分为两束或两束以上的探测光，并且每束探测光的位置不相同，检焦标记通过投影成像系统和多次反射棱镜将每束探测光位置的标记成像到被检测面表面上，经过被检测面反射后的检测光，经检焦标记放大系统放大后入射到探测器件上，利用探测器件探测经光学放大系统放大后的反射图像位置，对光刻投影物镜的焦面位置和焦面倾斜进行检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 投影 光刻 中焦 检测 光学系统 | ||
【主权项】：
一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统，其特征在于：由照明系统(1)、检焦标记(2)、投影成像系统(3)、多次反射棱镜(4)、被检测面(5)、反射镜(6)、检焦标记放大系统(7)和探测器件(8)组成；检焦标记(2)和投影成像系统(3)位于照明系统(1)和多次反射棱镜(4)之间，被检测面(5)位于多次反射棱镜(4)和反射镜(6)之间，检焦标记放大系统(7)位于反射镜(6)和探测器件(8)之间；投影成像系统(3)与照明系统(1)匹配为照明检焦标记(2)提供照明光，多次反射棱镜(4)将照明系统(1)的照明检焦标记(2)的入射光分为两束或两束以上的探测光，并且每束探测光的位置不相同，检焦标记(2)通过投影成像系统(3)和多次反射棱镜(4)将每束探测光位置的标记成像到被检测面(5)表面上，经过被检测面(5)反射后的检测光，经检焦标记放大系统(7)放大后入射到探测器件(8)上，利用探测器件(8)探测经光学放大系统(7)放大后的反射图像位置，对光刻投影物镜(3a)的焦面位置和焦面倾斜进行检测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010605515.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抽洗机以及清洁织物叠层的方法
- 下一篇：用于在接力移交期间退回的方法和装置
