[发明专利]一种基于空间像主成分控制的曝光系统有效
| 申请号： | 201010606308.2 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540745A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 杨志勇;李亮 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于空间像主成分控制的光刻曝光系统，沿光传播方向依序包括照明器、掩模版、投影物镜及硅片台，在该硅片台上布置用于测量空间像信息的测量单元，在该投影物镜中设置有至少一个位置可调的可动镜片，其特征在于，还包括一控制模块，该控制模块依据该测量单元所测量到的空间像信息建立该投影物镜中的可动镜片的位置到空间像主成分的转换矩阵，并根据该转换矩阵计算出该可动镜片的位置调整量以控制该可动镜片位移。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 空间 成分 控制 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种基于空间像主成分控制的光刻曝光系统，沿光传播方向依序包括照明器、掩模版、投影物镜及硅片台，在该硅片台上布置用于测量空间像信息的测量单元，在该投影物镜中设置有至少一个位置可调的可动镜片，其特征在于，还包括一控制模块，该控制模块依据该测量单元所测量到的空间像信息建立该投影物镜中的可动镜片的位置到空间像主成分的转换矩阵，并根据该转换矩阵计算出该可动镜片的位置调整量以控制该可动镜片位移。
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