[发明专利]一氧化钛仿金纳米薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010606348.7 申请日: 2010-12-24
公开(公告)号: CN102534499A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 冶银平;杜雯;李红轩;赵飞;权伟龙;吉利;陈建敏;周惠娣 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35;C23C14/02
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 代理人: 方晓佳
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种一氧化钛仿金纳米薄膜的制备方法。该方法制备的薄膜厚度在450nm左右,薄膜外观显示美丽的金黄色,为单一TiO晶型,颗粒粒径小、分布均匀。本发明中具有高效快速,对环境无污染的特点。仿金纳米薄膜具有理想的装饰效果,可望应用于高级仿金材料,并可用于仪器仪表等诸多领域。
搜索关键词: 氧化 钛仿金 纳米 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种一氧化钛仿金纳米薄膜的制备方法,其特征在于该方法包括以下步骤:A、清洗:将玻璃、硅片或不锈钢片清洗干净、干燥,作为基片;B、置样:将基片放置在真空磁控溅射镀膜装置中样品架上;C、抽本底真空:抽本底真空至4×10‑3Pa~7.6×10‑3Pa;D、等离子体清洗基片表面:在反应腔室中通入Ar气(99.99%),355~70sccm,使腔室压强为2.0Pa,启动转架;打开脉冲偏压电源,偏压值为600V,占空比为50%;产生等离子体清洗基片表面20min。E、溅射镀膜:调小Ar气气流量至50~85sccm。溅射所用靶材为99%Ti靶;开启溅射电源,溅射电流值为5~12A,溅射功率为2.6~2.9KW,开启脉冲偏压电源调节偏压值为200~800V,占空比20%~50%。2~5min后通入O2气流量为15~25sccm,溅射压强值为3.0~4.5×10‑1Pa,镀膜1~4小时;F、关机:关闭加热,关闭偏压及溅射电源,调小气流量,关闭气体,关机。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所,未经中国科学院兰州化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010606348.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code