[发明专利]一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法无效
| 申请号： | 201010607017.5 | 申请日： | 2010-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN102176211A | 公开（公告）日： | 2011-09-07 |
| 发明（设计）人： | 赵慧洁;姜宏志;吴尽龙;李旭东 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;B23Q17/00 |
| 代理公司： | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人： | 王顺荣;唐爱华 |
| 地址： | 100191 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法，该方法能够规划大尺寸三维形貌测量中的传感器测量路径。本发明基于投影栅相位法，首先计算传感器最佳测量角度；再利用高斯球原理，进行姿态规划，从而确定传感器旋转测量姿态；然后利用聚类方法进行位置规划，划分视场，计算视场中心；最后，将视场中心投影，得到传感器测量路径规划结果。本发明可以规划出基于投影栅相位法测量系统的测量路径，保证测量的高效性、准确性和完整性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 投影 相位 测量 系统 路径 规划 方法 | ||
【主权项】：
一种基于投影栅相位法测量系统的路径规划方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)计算传感器最佳测量角度；(2)根据传感器最佳测量角度，进行基于高斯球原理的姿态规划，确定传感器旋转测量姿态；(3)利用聚类方法进行位置规划，计算视场中心；(4)将视场中心投影，得到传感器测量位置；(5)深孔深槽特殊规划，得到深孔深槽的测量路径结果。
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