[发明专利]一种双腔标准具及其制作方法无效
| 申请号： | 201010607659.5 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102087376A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 吴砺;贺坤;魏豪明;林磊 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B1/10 |
| 代理公司： | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人： | 许育辉;孙文杰 |
| 地址： | 350001 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双腔标准具及其制作方法，其特征在于超薄法布里-珀罗腔是通过抛薄光胶在基板上的基片形成的，所述的基板和基片是能透过一定光波段的同种材料或膨胀系数近似的不同光学材料，形成双腔的基片厚度可以相等或者不等。本发明所述的双腔标准具及其制作方法避免了超薄平片加工和镀高反膜表面严重变形的困难，通过多腔级联滤波器的增加了自由光谱范围，减小了谱线宽，提高了精细度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 标准 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种双腔标准具，包括一基板，其特征在于：所述基板上深化光胶有由光学元件抛薄而成的基片形成的第一F‑P腔和第二F‑P腔，其特征还在于：所述的基板与第一F‑P腔、第一F‑P腔与第二F‑P腔相连腔面各有一面镀高反膜，且第二F‑P的另一面上也镀有高反射膜或所述的基板与第一F‑P腔、第一F‑P腔与第二F‑P腔相连腔面各有一面镀高反膜，且第二F‑P腔与一光学元件镀反射膜面深化光胶。
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