[发明专利]一种栅格图像边缝路径及边缝拓扑结构的生成方法及系统有效

专利信息
申请号: 201010609124.1 申请日: 2010-12-17
公开(公告)号: CN102542555A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 薛涛;张宏志;李平立;袁梦尤 申请(专利权)人: 北京大学;方正国际软件(北京)有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T5/00
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 任晓航;田明
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种栅格图像边缝路径及边缝拓扑结构的生成方法及系统,属于图像边界检测技术领域。该方法包括:选定栅格图像,通过梯度幅度图的计算,进行边界检测计算,得到所述图像的边界点;选取步骤S1中一个边界点,根据像素点梯度幅度进行邻域追踪,得到下一个边界点;第二个边界点结合第一个边界点参照水平、竖直方向的边缝梯度转化为边缝路径;重复以上步骤,直至完成整幅栅格图像的边缝路径;记录边缝路径信息,以及交叉点的信息,生成边缝拓扑结构。本发明生成的边界具有更准确的定位精度、更好的连续性及更丰富的边界信息,能够适应目前图像处理各热点领域对边界检测的应用要求。
搜索关键词: 一种 栅格 图像 路径 拓扑 结构 生成 方法 系统
【主权项】:
一种栅格图像边缝路径及边缝拓扑结构的生成方法,包括如下步骤:S1:选定栅格图像,通过梯度幅度图的计算,进行边界检测计算,得到所述图像的边界点;S2:选取步骤S1中一个边界点,根据像素点梯度幅度进行邻域追踪,得到下一个边界点;S3:所述下一个边界点结合前一个边界点参照水平、竖直方向的边缝梯度转化为边缝路径;S4:针对所有边界点,重复步骤S2~S3,直至完成整幅栅格图像的边缝路径。
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