[发明专利]发光二极管及其制造方法无效
申请号: | 201010610228.4 | 申请日: | 2010-12-23 |
公开(公告)号: | CN102130245A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 肖德元;张汝京 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/04 | 分类号: | H01L33/04;H01L33/22;H01L33/12;H01L33/42;H01L33/64;H01L33/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管及其制造方法,所述发光二极管包括:衬底,包括正面和与正面相对的背面,正面上具有多个凸起;依次形成于凸起上的第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;形成于第二导电类型半导体层上的第二导电类型电极;形成于衬底背面的第一导电类型电极。所述凸起使得在衬底上的膜层具有较低的缺陷密度和较低的、均匀的应力分布,晶圆不易破裂,形成的发光二极管的内量子效率与外量子效率均得到改善;此外,由于采用衬底作为发光二极管的一个电极垂直结构,充分利用了芯片的有效发光面积并改善了发光二极管的散热性能,发光二极管的发光效率进一步提高。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种发光二极管,包括:衬底,包括正面以及与所述正面相对的背面,所述正面上具有多个凸起;依次形成于所述凸起上的第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;形成于所述第二导电类型半导体层上的第二导电类型电极;形成于所述衬底背面的第一导电类型电极。
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