[发明专利]投影掩膜版的测试系统有效
| 申请号： | 201010613371.9 | 申请日： | 2010-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102566291A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 郭贵琦;赵蓓 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了投影掩膜版的测试系统，用于基于图像获取单元获得的待测试的掩膜版的缺陷图像进行分析，根据分析结果判断所述待测试的投影掩膜版的质量是否符合要求，所述投影掩膜版测试系统包括：图像分析单元，用于将所述缺陷图像与所述投影掩膜版对应的设计图像进行比较，获得所述缺陷图像与所述设计图像的偏差率；测试判断单元，基于所述图像分析单元输出的偏差率，与最大允许偏差率比较，所述输出偏差率未超出所述最大允许偏差率，则所述测试判断单元判断所述投影掩膜版质量符合要求；反之，所述测试单元判断所述投影掩膜版质量不符合要求。本发明利用软件测试投影掩膜版，降低了投影掩膜版的测试成本。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 掩膜版 测试 系统 | ||
【主权项】：
一种投影掩膜版测试系统，用于基于图像获取单元获得的待测试的掩膜版的缺陷图像进行分析，根据分析结果判断所述待测试的投影掩膜版的质量是否符合要求，其特征在于，所述投影掩膜版测试系统包括：图像分析单元，用于将所述缺陷图像与所述投影掩膜版对应的设计图像进行比较，获得所述缺陷图像与所述设计图像的偏差率；测试判断单元，基于所述图像分析单元输出的偏差率，与最大允许偏差率比较，所述输出偏差率未超出所述最大允许偏差率，则所述测试判断单元判断所述投影掩膜版质量符合要求；反之，所述测试单元判断所述投影掩膜版质量不符合要求。
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