[发明专利]图案化BiFeO3薄膜的光刻自组装制备方法无效

专利信息
申请号: 201010615750.1 申请日: 2010-12-30
公开(公告)号: CN102163486A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 谈国强;王艳;任宣儒;宋亚玉 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: H01F10/32 分类号: H01F10/32;B82Y40/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种图案化BiFeO3薄膜的光刻自组装制备方法,该方法包括下述制备步骤:步骤一:选用普通载玻片为基底,将切割好的玻璃基片分别超声波清洗,吹干;紫外光照射仪中照射;步骤二:将经紫外光照射后的玻璃基片置于OTS-甲苯溶液中浸泡,使基片表面形成一层OTS单分子膜;浸泡完成后用丙酮清洗,吹干,烘干;在光掩膜的覆盖下,在紫外光下照射,得到图案化的功能自组装薄膜;步骤三:配制BiFeO3前驱体溶液,并将图案化的功能自组装薄膜的OTS-SAMs基体置于前驱液中,沉积,超声波震荡清洗,退火,即得光刻自组装的图案化BiFeO3薄膜。该方法通过采用液相沉积法与光刻自组装技术相结合来制备BiFeO3图案化薄膜,该薄膜边缘轮廓清晰、与基底结合牢固。
搜索关键词: 图案 bifeo sub 薄膜 光刻 组装 制备 方法
【主权项】:
一种图案化BiFeO3薄膜的光刻自组装制备方法,其特征在于,该方法包括下述制备步骤:(1)选用普通载玻片为基底,将切割好的玻璃基片分别超声波清洗,吹干;并将洁净的玻璃基片置于紫外光照射仪中照射10‑20min;(2)将经紫外光照射后的玻璃基片置于体积百分比浓度1%十八烷基三氯硅烷OTS‑甲苯溶液中,在室温条件下浸泡20‑40min,使基片表面形成一层OTS单分子膜;浸泡完成后用丙酮清洗2‑3min,并用氮气吹干,之后在110‑130℃烘3‑5min;然后将OTS‑SAMs基体在光掩膜的覆盖下,在紫外光下照射30‑40min,得到图案化的功能自组装薄膜;(3)配制BiFeO3前驱体溶液,并将图案化的功能自组装薄膜的OTS‑SAMs基体竖直置于配制好的前驱液中,在60‑80℃下保温7‑8h,沉积结束后用超声波震荡清洗,之后将薄膜在550‑620℃退火2‑3h,即得光刻自组装的图案化BiFeO3薄膜。
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