[发明专利]一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法无效

专利信息
申请号: 201010615844.9 申请日: 2010-12-30
公开(公告)号: CN102553506A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 高鹏;牟诗城;徐超;吴元庆;屈怀泊 申请(专利权)人: 国家纳米技术与工程研究院
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00;B01L3/00;G03F7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300457 天津市*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于它包括如下步骤:①由PDMS基体和固化剂混合形成PDMS混合剂;②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;④使用紫外灯对其进行曝光;⑤曝光后,进行后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡去除;将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。本发明为一种新颖的低成本、快速、简单的工艺,实现了在PDMS上直接制作图形。
搜索关键词: 一种 利用 刻在 pdms 直接 形成 图形 方法
【主权项】:
一种利用光刻在PDMS上直接形成图形的方法,其特征在于它包括如下步骤:①由PDMS基体和固化剂按10∶1混合形成PDMS混合剂;②将苯甲酮晶体溶解于二甲苯中,形成苯甲酮溶液;在PDMS中加入苯甲酮,形成对紫外光敏感的PDMS;把这种混合液称作光敏PDMS;③先将玻璃片用硫酸双氧水混合液浸泡12分钟,再分别用丙酮、甲醇和去离子水浸泡和冲洗干净,而后用氮气吹干;④将光敏PDMS旋涂在玻璃片上,把光刻所用光刻铬掩膜板置于玻璃片之上,在铬板和玻璃片之间保持一定的空隙;使用紫外灯对其进行曝光;曝光的紫外波长<365nm,时间10分钟;⑤曝光后,将玻璃片在120℃下进行后烘,固化时间40‑120秒,经过后烘,PDMS未曝光的部分被固化,PDMS曝光的部分保持原来的状态;⑥将未固化的PDMS用甲苯浸泡3‑5秒进行去除;之后,将玻璃片用异丙醇冲洗干净,后用氮气吹干;完成图形的形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家纳米技术与工程研究院,未经国家纳米技术与工程研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010615844.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top