[发明专利]多孔氧化铝光子晶体及其制备方法和用途

摘要

本发明公开了一种多孔氧化铝光子晶体及其制备方法和用途。晶体由主干层和分叉层叠加构成，且其内的局部区域中置有缺陷层，其中，晶体的厚为75～85μm，主干层由主孔构成，分叉层由二分叉孔构成，二分叉孔的一只分叉孔的两端分别与其所在分叉层的上、下主干层的主孔相连通，缺陷层由其两端分别与主孔相连通的直孔构成。方法为先对铝片进行氧化，再将其于周期性电压下阳极氧化，得到含有主干层和分叉层的氧化铝片，接着，先于其正面的局部处涂抹油脂，再将其置于周期性电压下阳极氧化，得其内部的局部区域中含有缺陷层的氧化铝片，在去除其上的油脂后，先将其置于周期性电压下阳极氧化，再去除背面多余的铝，制得产物。它可用于780～1400nm波段的光学防伪。

主权项

一种多孔氧化铝光子晶体，由主干层和分叉层叠加构成，其特征在于：所述光子晶体的厚度为75～85μm，且其内的局部区域中置有缺陷层；所述主干层和分叉层的层数为375～425层，其相互间的厚度比为2～3∶1；所述主干层由主孔构成，所述分叉层由二分叉孔构成，所述二分叉孔的孔间夹角为30～50度，其中的一只分叉孔的两端分别与其所在分叉层的上、下主干层的主孔相连通；所述主孔的位于光子晶体上表面处的孔直径为80～110nm，其它各层的孔直径呈线性缩小，直至光子晶体下表面处的孔直径为17～20nm；所述主干层和分叉层的位于光子晶体上表面处的层厚分别为300～350nm和100～140nm，其它各层的层厚呈线性缩小，直至光子晶体下表面处的层厚分别为130～150nm和50～70nm；所述缺陷层距离光子晶体上表面30～32μm，其由孔直径为60～70nm、孔长为260～1060nm的直孔构成，所述直孔的两端分别与主孔相连通。