[发明专利]吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用无效
| 申请号： | 201010617347.2 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102072614A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 任剑锋 | 申请（专利权）人： | 苏州普锐晶科技有限公司 |
| 主分类号： | F26B5/12 | 分类号： | F26B5/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种应用于频率片加工领域的频率片的清洗干燥工艺。一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程的步骤为：A、用纯水将频率片进行清洗；B、将清洗后的频率片放入吸引干燥机中，干燥5-15分钟，温度条件为40-70度，压强条件为10-30KPa；C、频率片干燥完成，进行下一工序。本发明优点在于：将普通的酒精脱水的方式进行干燥替换为吸引干燥，提高了清洗效率，同时将脏污发生率从0.5％降为0；避免了酒精脱水干燥过程中，上下回旋摇动对频率片产生的损毁。 | ||
| 搜索关键词： | 吸引 干燥 频率 清洗 工程 应用 | ||
【主权项】：
一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。
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