[发明专利]一种检测投影物镜畸变和场曲的方法无效
| 申请号： | 201010619056.7 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102540751A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 舒建伟;刘国淦 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种检测装置，用于检测光刻机投影物镜的畸变和场曲，包括：一针孔掩模；一波前传感器，用于接收所述针孔掩模的像，测量针孔像点的波前倾斜量以及波前曲率半径；以及一干涉仪测量组件，用于测量工件台在X、Y、Z方向的位置。通过波前传感器测量像点相对于该传感器自身参考点的对准偏差，同时用干涉仪测量该传感器的位移大小，从而最终获得各像点的相对位置关系，拟合出畸变并计算物镜的像面场曲。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 投影 物镜 畸变 方法 | ||
【主权项】：
一种检测装置，用于检测光刻机投影物镜的畸变和场曲，其特征在于包括：一针孔掩模，设置有一针孔阵列，用于将透过所述每一个针孔的光波，在物镜折射后，形成对应的像点；一波前传感器，设置在工件台上，通过测定所述像点的波前倾斜和波前曲率，及工件台的移动，来得到所述像点的位置移动工件台将自身的参考点与像点对准；以及一干涉仪测量组件，用于测量工件台在检测过程中在X、Y、Z方向的位移。
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