[发明专利]一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法有效

专利信息
申请号: 201010619223.8 申请日: 2010-12-31
公开(公告)号: CN102136487A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 李效民;张锋;于伟东;高相东;何邕;甘小燕;吴亮 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基于氧化锌材料的新型电阻式RAM(随机存储器)存储单元及制备方法。所述的存储单元包括开关元件和存储元件,特征在于开关元件以透明导电薄膜为底电极,以ZnO薄膜为中间层,以Pt、Au、Ir等功函数较高金属(M)为顶电极,形成FTO(ITO)/ZnO/M的结构。存储元件的中间层采用与开关元件相同的ZnO薄膜,以M为底电极和顶电极,形成M/ZnO/M的结构。两个中间层ZnO采用相同的氧等离子体辅助激光脉冲沉积制备工艺,制备出电学性能良好的ZnO薄膜。最大优点是获得了性能稳定的开关元件,并且开关元件和存储元件采用相同的制备工艺和薄膜材料,大大简化了工艺流程,获得了可实现稳定可逆电阻转变的并可避免误读操作的存储单元。
搜索关键词: 一种 基于 氧化锌 材料 电阻 ram 存储 单元 制备 方法
【主权项】:
基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元,所述的存储单元包括开关元件和存储元件,其特征在于:①开关元件以透明导电薄膜为底电极,以ZnO薄膜为中间层,以功函数较高的金属为顶电极的三明治结构;②存储元件的底电极和顶电极均为功函数较高的金属,中间阻变层为ZnO薄膜,形成M/ZnO/M结构;③存储单元由存储元件与开关元件串联而成,其中开关元件的顶电极与存储元件的底电极共用。
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