[发明专利]一种光刻曝光系统集成装配方法有效
| 申请号： | 201010619287.8 | 申请日： | 2010-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102566296A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 郭勇;储兆祥 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种光刻曝光系统的光学集成装配方法，包括下述步骤：第一步，利用点能量传感器和投影物镜对准掩模标定投影物镜最佳像面的中心和方向；第二步，测量曝光系统的远心，根据远心值计算照明模块相对于所述投影物镜的倾斜；第三步，测量所述投影物镜对准掩模中心小孔和照明对准工装中心小孔的位置偏差，计算所述照明模块相对于所述投影物镜的偏心；第四步，测量所述投影物镜对准掩模多个辅助小孔和照明对准工装多个辅助小孔的位置偏差，计算所述照明模块相对于所述投影物镜的旋转；第五步，测量所述照明对准工装中心小孔的半影宽度以计算所述照明模块相对于所述投影物镜的Z向调整量；第六步，根据以上测量结果，确定所述照明模块所需的机械调整量；第七步，对所述照明模块进行机械调整，重复第二步～第六步，直到达到集成需求为止。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 曝光 系统集成 装配 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻曝光系统的光学集成装配方法，包括下述步骤：第一步，利用点能量传感器和投影物镜对准掩模标定投影物镜最佳像面的中心和方向；第二步，测量曝光系统的远心，根据远心值计算照明模块相对于所述投影物镜的倾斜；第三步，测量所述投影物镜对准掩模中心小孔和照明对准工装中心小孔的位置偏差，计算所述照明模块相对于所述投影物镜的偏心；第四步，测量所述投影物镜对准掩模多个辅助小孔和照明对准工装多个辅助小孔的位置偏差，计算所述照明模块相对于所述投影物镜的旋转；第五步，测量所述照明对准工装中心小孔的半影宽度以计算所述照明模块相对于所述投影物镜的Z向调整量；第六步，根据以上测量结果，确定所述照明模块所需的机械调整量；第七步，对所述照明模块进行机械调整。
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