[发明专利]一种快速确定微细周期结构形貌参数的方法及设备有效
| 申请号： | 201010619446.4 | 申请日： | 2010-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102183212A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | 刘国祥;张振生;刘志钧;施耀明;徐益平 | 申请（专利权）人： | 睿励科学仪器(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 形貌测量设备所测样品的形貌参数多、范围大或者精度要求高时，通过计算形貌参数可能的全部组合对应的理论光谱来匹配测量光谱需要巨量的计算能力。本发明提供了基于光学散射信号快速确定微细周期结构形貌参数的方法及设备，该方法包括：i.将待测器件的形貌参数化；ii.建立从参数到近似光谱的近似解析模型；iii.测量所述待测器件的测量光谱，所述测量光谱包括从所述待测器件散射的散射信号；iv.确定与该待测器件的形貌参数对应的初始参数，并基于该初始参数，使用该近似解析模型，确定与所述测量光谱相匹配的匹配近似参数；v.使用从参数到理论光谱的理论解析模型，根据所述匹配近似参数确定该待测器件的形貌参数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 确定 微细 周期 结构 形貌 参数 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种快速确定待测器件的形貌参数的方法，该方法包括以下步骤：i.将待测器件的形貌参数化；ii.建立从参数到近似光谱的近似解析模型；iii.测量所述待测器件的测量光谱，所述测量光谱包括从所述待测器件散射的散射信号；iv.确定与该待测器件的形貌参数对应的初始参数，并基于该初始参数，使用该近似解析模型，确定与所述测量光谱相匹配的匹配近似参数；v.使用从参数到理论光谱的理论解析模型，根据所述匹配近似参数确定该待测器件的形貌参数。
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