[发明专利]跨微纳尺度集成流道的制备方法有效
申请号: | 201010620619.4 | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102086021A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 尚金堂;罗新虎;于慧;蒋明霞;刘靖东 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 张惠忠 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种跨微纳尺度集成流道的制备方法,属于微纳制造领域,具体步骤为:第一步,在硼硅玻璃微流道之间制备硼硅玻璃隔膜,第二步,对硼硅玻璃隔膜进行热处理使玻璃分相,第三步,采用腐蚀液对硼硅玻璃隔膜进行腐蚀形成纳米孔洞,使得硼硅玻璃微流道之间连通,从而得到跨微纳尺度集成流道。本发明通过硼硅玻璃流道在热成型过程中腔壁互相挤压过程中形成厚度为微米至亚微米甚至更薄的硼硅玻璃隔膜,对其进行热处理使硼硅玻璃分相,再利用腐蚀液去处富硼相,可以使得玻璃隔膜在最薄处导通,形成纳米尺度的连通孔。该方法过程简单,不需要特别的设备,成本较低,流道可重复使用。 | ||
搜索关键词: | 跨微纳 尺度 集成 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种跨微纳尺度集成流道的制备方法,其特征在于:第一步,在硼硅玻璃微流道(41)、(42)之间制备硼硅玻璃隔膜(6),第二步,对硼硅玻璃隔膜(6)进行热处理使玻璃分相,第三步,采用腐蚀液对硼硅玻璃隔膜进行腐蚀形成纳米孔洞,使得硼硅玻璃微流道(41)、(42)之间连通,从而得到跨微纳尺度集成流道。
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