[发明专利]介质窗、电感耦合线圈组件及等离子体处理设备无效
| 申请号： | 201010622209.3 | 申请日： | 2010-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN102548180A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 刑涛 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;陈源 |
| 地址： | 100015 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种介质窗、电感耦合线圈组件及等离子体处理设备。其中，本发明提供的介质窗用于在等离子体处理设备中安装电感耦合线圈，该介质窗的上表面具有与上述电感耦合线圈的形状相适配的装卡部，借助该装卡部可将电感耦合线圈精确地固定于介质窗的上表面，从而有利于在等离子体工艺腔室内获得均匀分布的等离子体。本发明提供的电感耦合线圈组件及等离子体处理设备同样能够对电感耦合线圈进行精确地安装定位，从而在工艺腔室内获得均匀分布的等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 电感 耦合 线圈 组件 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种介质窗，用于在等离子体处理设备中安装电感耦合线圈，其特征在于，所述介质窗的上表面具有与所述电感耦合线圈的形状相适配的装卡部，所述电感耦合线圈可被固定于所述装卡部中。
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