[发明专利]气体的在位测量方法及装置有效

专利信息
申请号: 201010622384.2 申请日: 2010-12-31
公开(公告)号: CN102175642A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 林德宝;陈生龙;战宏亮;俞大海 申请(专利权)人: 聚光科技(杭州)股份有限公司
主分类号: G01N21/39 分类号: G01N21/39;G01N27/407;G01N24/10;G01N21/25
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及气体的在位测量方法,特点是:光源发出的测量光在光源和探测器之间形成测量光路,测量光路上具有测量区域和非测量区域;所述非测量区域内通有第一气体,第一气体中含有被测气体;第一气体经过气流延时后进入非测量区域;在气流延时前或延时中,测得第一气体中被测气体的浓度;分析测量光在测量区域和非测量区域的衰减,并利用第一气体中被测气体的浓度,从而获得测量区域内被测气体的浓度。本发明具有测量精度高等优点。
搜索关键词: 气体 在位 测量方法 装置
【主权项】:
气体的在位测量方法,其特征在于:光源发出的测量光在光源和探测器之间形成测量光路,测量光路上具有测量区域和非测量区域;所述非测量区域内通有第一气体,第一气体中含有被测气体;第一气体经过气流延时后进入非测量区域;在气流延时前或延时中,测得第一气体中被测气体的浓度;分析测量光在测量区域和非测量区域的衰减,并利用第一气体中被测气体的浓度,从而获得测量区域内被测气体的浓度。
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