[发明专利]用于探测光伏装置中的缺陷的光子成像系统及其方法有效
申请号: | 201010623179.8 | 申请日: | 2010-12-23 |
公开(公告)号: | CN102183523A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | F·R·阿迈德;O·苏利马;K·R·纳加卡;赵日安;J·W·布雷 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱海煜;王忠忠 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种方法包括:经由电流源(14)将电流提供给至少一个光伏装置(12),并且经由辐射探测器(16)来探测来自至少一个光伏装置(12)的发射光子辐射。该方法还包括将对应于所探测的发射光子辐射的信号从辐射探测器(16)输出到处理器装置(18),以及经由处理器装置(18)来处理与所探测的发射光子辐射对应的信号,以便生成一个或多个二维光子图像。该方法还包括分析一个或多个二维光子图像,以便确定至少一个光伏装置(12)中的至少一个缺陷。 | ||
搜索关键词: | 用于 探测 装置 中的 缺陷 光子 成像 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种方法,包括下列步骤:经由电流源(14)将电流提供给至少一个光伏装置(12);经由辐射探测器(16)探测来自所述至少一个光伏装置(12)的发射光子辐射;将对应于所探测的发射光子辐射的信号从所述辐射探测器(16)输出到处理器装置(18);经由所述处理器装置(18)来处理与所探测的发射光子辐射对应的信号,以便生成一个或多个二维光子图像;以及分析所述一个或多个二维光子图像,以便确定该至少一个光伏装置(12)中的至少一个缺陷。
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