[发明专利]掩膜只读存储器无效

专利信息
申请号: 201019063036.3 申请日: 2010-02-05
公开(公告)号: CN101800222A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 董耀旗 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种掩膜只读存储器,制作在掺杂阱中,其包括平行排布的多条位线以及垂直设置在所述多条位线上的多条字线,所述掩膜只读存储器具有多个存储单元,每一所述存储单元具有一导电沟道,所述导电沟道包括在所述掺杂阱中的两相邻位线之间的字线下方的区域,其中,所述导电沟道沿其延伸方向分成第一编码区和第二编码区,所述第一编码区和第二编码区通过是否进行离子注入来各实现一位二进制数据的存储。
搜索关键词: 只读存储器
【主权项】:
一种掩膜只读存储器,制作在掺杂阱中,其包括平行排布的多条位线以及垂直设置在所述多条位线上的多条字线,所述掩膜只读存储器具有多个存储单元,每一所述存储单元具有一导电沟道,所述导电沟道包括在所述掺杂阱中的两相邻位线之间的字线下方的区域,其特征在于,所述导电沟道沿其延伸方向分成第一编码区和第二编码区,所述第一编码区和第二编码区通过是否进行离子注入来各实现一位二进制数据的存储。
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