[实用新型]设置溢流口的电镀槽有效

专利信息
申请号: 201020032751.9 申请日: 2010-01-05
公开(公告)号: CN201605342U 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 王振荣;吕海波;黄春杰 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: C25D17/02 分类号: C25D17/02
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201616 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种设置溢流口的电镀槽,包括槽体,槽体的槽壁上设置有可允许引线框架通过的溢流口,其特征在于,所述的溢流口处活动安装有限流装置,所述的限流装置包括定位柱和限流块,限流块上开设有空腔,定位柱安装于槽壁上,限流块可活动的套设在定位柱上。本实用新型的有益效果为:结构简单,使用方便。既可以防止电镀液的液面过低,又不会堵死溢流口。既能保证电镀液从溢流口流出,又可以防止碰撞引线框架而损害引线框架。
搜索关键词: 设置 溢流 电镀
【主权项】:
设置溢流口的电镀槽,包括槽体,槽体的槽壁上设置有可允许引线框架通过的溢流口,其特征在于,所述的溢流口处活动安装有限流装置,所述的限流装置包括定位柱和限流块,限流块上开设有空腔,定位柱安装于槽壁上,限流块可活动的套设在定位柱上。
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