[实用新型]一种防反射色差补正成膜滤光片有效

专利信息
申请号: 201020102757.9 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN201576105U 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 石田克则;中山恭司 申请(专利权)人: 青岛豪雅光电子有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B5/20
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 王连君
地址: 266555 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开一种防反射色差补正成膜滤光片,包括玻璃基片,在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜,特征是所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成,第一膜层作为最下层,第五膜层作为最上层,第一膜层的厚度为20nm,第二膜层的厚度为16nm,第三膜层的厚度为32nm,第四膜层的厚度为110nm,第五膜层的厚度为84nm。其中第一膜层为氟化镁膜层,第二膜层为氧化钛膜层,第三膜层为二氧化硅膜层,第四膜层为氧化钛膜层,第五膜层为二氧化硅膜层。本实用新型采取上述成膜方式,经验证波长在430~650nm范围内,反射率能够达到0.8%以下,能够更为有效地抑制光亮衰减。
搜索关键词: 一种 反射 色差 补正 滤光
【主权项】:
一种防反射色差补正成膜滤光片,包括玻璃基片,在玻璃基片的某一侧面或两侧面设置有成膜,其特征在于:所述成膜由第一膜层至第五膜层依次制备形成,第一膜层作为最下层,第五膜层作为最上层;所述第一膜层的厚度为20nm,第二膜层的厚度为16nm,第三膜层的厚度为32nm,第四膜层的厚度为110nm,第五膜层的厚度为84nm。
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