[实用新型]一种硅基异质结太阳电池无效
申请号: | 201020102974.8 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN201699034U | 公开(公告)日: | 2011-01-05 |
发明(设计)人: | 倪开禄;彭德香;陶然;张正权;沈文忠;司新文;张剑;孟凡英;彭铮;李长岭;高华;李正平;周红芳 | 申请(专利权)人: | 上海超日太阳能科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/06 | 分类号: | H01L31/06;H01L31/028;H01L31/20 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 黄志达;谢文凯 |
地址: | 201406 上海市奉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种硅基异质结太阳电池,结合了晶体硅与薄膜材料的特点,包括自上而下叠层结合的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层,n型非晶硅碳薄膜层与n型非晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,n型非晶硅薄膜层与n型微晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,从而形成一种非晶硅碳/非晶硅/微晶硅/晶体硅太阳电池结构,有利于减弱非晶硅薄膜的光致衰减效应,提高太阳电池的稳定性;利用不同带隙半导体材料组成的窗口效应,实现了异质结电池结构对不同频率波段光的选择吸收,增加了入射光的总体有效利用,以提高太阳能电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅基异质结 太阳电池 | ||
【主权项】:
一种硅基异质结太阳电池,包括n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层,其特征在于,所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层依序自上而下叠层结合;所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层掺杂浓度依次控制为n++、n+与n;所述的晶体硅材料层为p型硅基底层或进行了n型掺杂扩散处理的p型硅基底层;所述的n型非晶硅碳薄膜层与所述的n型非晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,所述的n型非晶硅薄膜层与所述的n型微晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构;所述的n型非晶硅碳薄膜层上有接触受光面电极;所述的晶体硅材料层下有背光面电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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