[实用新型]一种硅基异质结太阳电池无效

专利信息
申请号: 201020102974.8 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN201699034U 公开(公告)日: 2011-01-05
发明(设计)人: 倪开禄;彭德香;陶然;张正权;沈文忠;司新文;张剑;孟凡英;彭铮;李长岭;高华;李正平;周红芳 申请(专利权)人: 上海超日太阳能科技股份有限公司
主分类号: H01L31/06 分类号: H01L31/06;H01L31/028;H01L31/20
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达;谢文凯
地址: 201406 上海市奉*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种硅基异质结太阳电池,结合了晶体硅与薄膜材料的特点,包括自上而下叠层结合的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层,n型非晶硅碳薄膜层与n型非晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,n型非晶硅薄膜层与n型微晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,从而形成一种非晶硅碳/非晶硅/微晶硅/晶体硅太阳电池结构,有利于减弱非晶硅薄膜的光致衰减效应,提高太阳电池的稳定性;利用不同带隙半导体材料组成的窗口效应,实现了异质结电池结构对不同频率波段光的选择吸收,增加了入射光的总体有效利用,以提高太阳能电池的光电转换效率。
搜索关键词: 一种 硅基异质结 太阳电池
【主权项】:
一种硅基异质结太阳电池,包括n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层,其特征在于,所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层、晶体硅材料层依序自上而下叠层结合;所述的n型非晶硅碳薄膜层、n型非晶硅薄膜层、n型微晶硅薄膜层掺杂浓度依次控制为n++、n+与n;所述的晶体硅材料层为p型硅基底层或进行了n型掺杂扩散处理的p型硅基底层;所述的n型非晶硅碳薄膜层与所述的n型非晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构,所述的n型非晶硅薄膜层与所述的n型微晶硅薄膜层之间形成一个异质结结构;所述的n型非晶硅碳薄膜层上有接触受光面电极;所述的晶体硅材料层下有背光面电极。
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