[实用新型]一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器无效
申请号: | 201020109723.2 | 申请日: | 2010-02-09 |
公开(公告)号: | CN201634761U | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 阎佐健 | 申请(专利权)人: | 沈阳慧宇真空技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/18 |
代理公司: | 沈阳世纪蓝海专利事务所 21232 | 代理人: | 刘东兴 |
地址: | 110042 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器,克服了现有技术上出气管置于下出气管之中冷却效果不好,以及下出气管置于冷却腔中易产生水腐蚀,影响产品使用寿命的技术问题,特征是包括有气盒和水冷盒,在气盒下盖上加工有直接起下层气导管作用的下层气导气孔,上层气导管置于下层气导气孔中,在气盒下面安装有与气盒相接触的水冷盒,在水冷盒上加工有与气盒上的上层气导管和下层气导气孔相对应的起喷气孔作用的水冷导气管,在水冷盒外侧安装有气帘套筒,有益效果是,上层气和下层气两层气体在送入反应室之前共同经过水冷盒直接冷却,保证了两层气体冷却效果,且结构简单,加工方便,可以制成大尺寸的喷雾器,提高了使用效率和产品的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 金属 有机化学 沉积 设备 喷雾器 | ||
【主权项】:
一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器,包括有气盒和水冷盒,所述气盒由气盒上盖(3)、气盒隔板(4)和气盒下盖(5)组成,气盒上盖(3)与气盒隔板(4)之间为上气室,气盒隔板(4)与气盒下盖(5)之间为下气室,在气盒上盖(3)上加工有通孔,并在其中安装与上气室连通的上进气管(10),在气盒上盖(3)和气盒隔板(4)对应位置上加工有通孔,并在其中安装与下气室连通的下进气管(11),在气盒隔板(4)与气盒下盖(5)对应位置上加工有通孔,并在其中安装上层气导管(15),其特征在于,在气盒下盖(5)上加工有直接起下层气导管作用的下层气导气孔(16),所述上层气导管(15)置于下层气导气孔(16)中,在所述气盒下面安装有与气盒相接触的水冷盒,所述水冷盒由水冷盒上盖(12)和水冷盒下盖(13)组成,在水冷盒上加工有与气盒上的上层气导管(15)和下层气导气孔(16)相对应的起喷气孔作用的水冷导气管(14),在水冷盒上盖(12)上连接有进水管(2)和出水管(8)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的