[实用新型]微纳米级原位纳米压痕刻划测试系统

摘要

本实用新型涉及集驱动、精密加载与信号检测、微纳米级力学性能测试、超精密刻划加工和高分辨率原位观测为一体的微纳米级原位纳米压痕刻划测试系统。该系统主要由X、Y轴方向精密定位平台、Z轴方向的精密线性定位平台和精密压入驱动单元、载荷信号和位移信号的检测单元、用于观测存储测试过程中材料变形、损伤状况的高分辨率数字显微成像系统组成。X、Y轴方向精密定位平台装配在底座上，Z轴方向的精密线性定位平台装配在侧板上，精密压入驱动单元、检测金刚石工具头压入材料压力的精密力学传感器和检测Z方向金刚石工具头压入深度的精密位移传感器装配在Z轴方向的精密线性定位平台上，高分辨率数字显微成像系统装配在横梁上。

主权项

一种微纳米级原位纳米压痕刻划测试系统，主要由X、Y和Z轴方向定位平台、驱动和检测单元以及用于观测存储测试过程中材料变形、损伤状况的高分辨率数字显微成像系统组成，其特征在于，所述的X、Y和Z轴方向定位平台中的X、Y轴方向精密定位平台(17)通过能同时沿X、Y轴方向移动的滑动机构装配在底座(2)上，Z轴方向的精密线性定位平台(6)与固定在底座(2)上的侧板(3)滑动配合，所述的驱动和检测单元安装在Z轴方向的精密线性定位平台(6)上，高分辨率数字显微成像系统装配在与底座(2)固定安装的横梁(10)上。