[实用新型]一种引线框架有效
申请号: | 201020141571.4 | 申请日: | 2010-03-16 |
公开(公告)号: | CN201732781U | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 沈骏;朱慧;丁莹;黄仰东 | 申请(专利权)人: | 日立电线(苏州)精工有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L23/13 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋 |
地址: | 215126 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种引线框架,包括一框架本体,所述框架本体由至少一个单元构成,每一框架本体单元上设有载片台,与所述载片台配合设有引脚,所述引脚一端设有焊接部,引脚与载片台间、相邻单元间分别经连接结构连接,其特征在于:所述载片台四周开设有双V型凹槽结构,所述双V型凹槽结构间还设中间凹槽。由于本实用新型通过在引线框架的载片台四周开设双V型凹槽结构及中间凹槽,增大了封装树脂与引线框架之间的结合面积,提高了结合力,避免了因结合不充分而导致树脂脱落的问题,保证了半导体元件的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 引线 框架 | ||
【主权项】:
一种引线框架,包括一框架本体(1),所述框架本体(1)由至少一个单元构成,每一框架本体单元上设有载片台(2),与所述载片台(2)配合设有引脚(3),所述引脚(3)一端设有焊接部(4),引脚(3)与载片台(2)间、相邻单元间分别经连接结构连接,其特征在于:所述载片台(2)四周开设有双V型凹槽结构(5),所述双V型凹槽结构(5)间还设中间凹槽(6)。
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