[实用新型]一种高速旋转真空破坏机构有效

专利信息
申请号: 201020149486.2 申请日: 2010-03-30
公开(公告)号: CN201819008U 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 叶青山 申请(专利权)人: 深圳市华腾半导体设备有限公司
主分类号: F17D1/20 分类号: F17D1/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种高速旋转真空破坏机构,其特征在于:所述真空破坏机构包括底座、旋转轴、上下真空结合零件与弹性固定片,下真空结合零件固定在底座上,弹性固定片分别与上真空结合零件、旋转轴连接,上真空结合零件安装在转轴上,上下真空结合零件上开有若干个孔,旋转轴的中间开有孔。所述上真空结合零件上开有若干个独立的孔,所开独立孔数与真空破坏机构中的真空破坏通道数相对应。所述下真空结合零件上开有若干个独立的孔,所开独立孔数与真空破坏机构中的工位数相对应。
搜索关键词: 一种 高速 旋转 真空 破坏 机构
【主权项】:
一种高速旋转真空破坏机构,其特征在于:所述真空破坏机构包括底座、旋转轴、上下真空结合零件与弹性固定片,下真空结合零件固定在底座上,弹性固定片分别与上真空结合零件、旋转轴连接,上真空结合零件安装在转轴上,上下真空结合零件上开有若干个孔,旋转轴的中间开有孔。
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