[实用新型]硅锭的抛光系统及抛光板

摘要

本实用新型提出一种硅锭的抛光系统，包括：用于承载硅锭的承载装置；用于对硅锭进行抛光的抛光板，该抛光板具有至少一个用于抛光液导入的导入孔和与导入孔相连的至少一个导流槽；用于使抛光板与硅锭的上表面接触并对抛光板施加预设压力且在抛光硅锭时使抛光板旋转的旋转伸缩装置；用于将抛光液通过导入孔和导流槽而流入抛光板的抛光布与硅锭的抛光界面的供液装置。根据本实用新型的硅锭的抛光系统，通过湿法抛光技术可以增加抛光去除量、改善硅锭的表面损伤层，因此本实用新型不仅能够降低生产成本，还能提高抛光效果。此外，本实用新型还提出了一种抛光板，该抛光板具有至少一个用于抛光液导入的导入孔和与导入孔相连的至少一个导流槽。

主权项

一种硅锭的抛光系统，其特征在于，包括：承载装置，用于承载硅锭，并可水平移动；用于对所述硅锭进行抛光的抛光板，其中，所述抛光板具有至少一个用于抛光液导入的导入孔和与所述导入孔相连的至少一个导流槽；旋转伸缩装置，用于移动与所述抛光板相连接的传动杆以使所述抛光板与所述硅锭的上表面接触，并通过所述传动杆对所述抛光板施加预设的压力，以及在抛光所述硅锭时旋转所述传动杆以使所述抛光板旋转；和供液装置，用于将抛光液导入到所述抛光板的导入孔中，所述抛光液通过所述导入孔和所述导流槽流入所述抛光板的抛光布与硅锭的抛光界面。