[实用新型]图案化雾面转印膜结构

摘要

一种图案化雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一遮蔽层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层及一黏着膜层。该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；遮蔽层具有一光滑的上表面，覆盖于基底薄膜层的上表面的局部区域，以于基底薄膜层上方形成一光面图案；离型层设置于基底薄膜层及遮蔽层的上表面；硬化膜层设置于离型层的上表面；饰纹层设置于硬化膜层的上表面；黏着膜层设置于饰纹层的上表面。其中，间隔离型层邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，且上方分布有光面图案，而于转印膜应用时达到图案化雾面效果。

主权项

一种图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括一由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。