[实用新型]光学反射装置无效
| 申请号： | 201020214999.7 | 申请日： | 2010-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN201725048U | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 杨诏中;陈奇夆;黄忠章;陈宇杰;谭文圣 | 申请（专利权）人： | 大昱光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/124 | 分类号： | G02B5/124;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽;唐秀萍 |
| 地址： | 中国台湾桃园县新屋*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种光学反射装置，包括基材、第一材质层、第一锥型图案层、反射层以及第二材质层。第一材质层形成于基材上。第一锥型图案层形成于第一材质层上，该第一锥型图案层由若干个第一角锥结构组成。反射层形成于第一锥型图案层上，该反射层是由若干个反射图案组成，每一反射图案覆盖于每一第一角锥结构上。第二材质层形成于该反射层上，该第二材质层具有第二锥型图案层，该第二锥型图案层是由若干个第二角锥结构组成，该第二锥型图案层覆盖于这些反射层，且这些第二角锥结构填入于该反射层的反射图案之间的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 反射 装置 | ||
【主权项】：
一种光学反射装置，用以反射一入射光线，该光学反射装置包括：一基材；一第一材质层，形成于一基材上；一第一锥型图案层，形成于该第一材质层上，该第一锥型图案层是由若干个第一角锥结构组成；一反射层，形成于该第一锥型图案层上，该反射层覆盖于这些第一角锥结构，其中该反射层是由若干个反射图案组成，每一反射图案覆盖于每一第一角锥结构上；以及一第二材质层，形成于该反射层上，该第二材质层具有一第二锥型图案层，该第二锥型图案层是由若干个第二角锥结构组成，该第二锥型图案层覆盖于该反射层，且这些第二角锥结构填入于该反射层的这些反射图案之间的区域，使这些第二角锥结构与这些第一角锥结构之间形成互补结构。
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