[实用新型]一种全息光栅的制作装置无效

专利信息
申请号: 201020233097.8 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN201716525U 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 陈映纯;黄婉华;赖演萍;黄佐华 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G02B5/18
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 裘晖;杨晓松
地址: 510631 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种全息光栅的制作装置。该制作装置包含光源、扩束镜、空间滤波器、平面平晶和用于记录经平面平晶两个光学表面反射形成平行干涉条纹的全息干版;其中,光源、扩束镜、空间滤波器和平面平晶沿光束前进的方向依次共轴排列,平面平晶与光轴形成的夹角可调,用于记录经平面平晶两个光学表面反射形成平行干涉条纹的全息干版位于干涉场。本实用新型元件少,不需使用标准光栅,调节灵活方便,而且由于属分波幅干涉,光程短,本实用新型产生的干涉条纹稳定,衬比度高,抗干扰能力强。本实用新型的干涉条纹间距可控量较多,易于调节光栅常数,特别适合于制作教学用的低频光栅全息光栅。
搜索关键词: 一种 全息 光栅 制作 装置
【主权项】:
一种全息光栅的制作装置,其特征在于:所述制作装置包含光源、扩束镜、空间滤波器、平面平晶和用于记录经平面平晶两个光学表面反射形成平行干涉条纹的全息干版;其中,光源、扩束镜、空间滤波器和平面平晶沿光束前进的方向依次共轴排列,平面平晶与光轴形成的夹角可调,用于记录经平面平晶两个光学表面反射形成平行干涉条纹的全息干版位于干涉场。
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