[实用新型]一种用于测量套准精度的测量结构有效
| 申请号： | 201020246561.7 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN201740972U | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 201210*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于测量套准精度的测量结构，包括前层被对准结构和当前层对准结构两部分组成，所述测量结构为中心轴对称图形，所述前层被对准结构相对所述当前层对准结构在X轴和Y轴方向上有偏移。所述前层被对准图形相对于当前层对准图形在X轴、Y轴方向上分别引入了偏移量后，通过工艺制作后的测量结果与预设偏移量的比较，可以测出并校正工艺或测量等方面产生误差，提高测试精度和可信度，减少了工艺的负面影响，并且避免了硅片的报废，减小损失，缩短了周期流程较长，且图形简单，便于制作，可重复使用，有利于大量生产。所述测量结构可应用于光刻机对准标记、套准标记、游标标记、目测标记、线宽测量标记等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 测量 精度 结构 | ||
【主权项】：
一种用于测量套准精度的测量结构，为中心轴对称图形，其特征在于，包括前层被对准结构和当前层对准结构两部分，所述前层被对准结构相对所述当前层对准结构在X轴方向和Y轴方向上有偏移量。
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