[实用新型]立式上胶机烤箱的温度控制系统

摘要

本实用新型涉及一种立式上胶机烤箱的温度控制系统，包括箱体，在箱体一端内部设有热煤油盘区，箱体中还设有上行区和下行区，上行区和下行区左右放置，上行区中设有位于上行片材两侧的第一辐射板，下行区中设有位于下行片材两侧的第二辐射板，第一辐射板和第二辐射板的外表面设有玻璃，上行区的两个第一辐射板之间设有多个上下放置的测温装置，下行区的两个第二辐射板之间也设有多个上下放置测温装置。本实用新型具有能完全保证将胶化时间控制稳定，便于清理，保证辐射效果的优点。

主权项

一种立式上胶机烤箱的温度控制系统，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)一端内部设有热煤油盘区(2)，所述箱体(1)中还设有上行区(3)和下行区(4)，所述上行区(3)和下行区(4)左右放置，且所述热煤油盘区(2)靠近所述上行区(3)，所述上行区(3)中设有上行片材(5)，所述上行区(3)中还设有两个第一辐射板(6)，两个所述第一辐射板(6)分别位于所述上行片材(5)的两侧，所述下行区(4)中设有下行片材(7)，所述下行区(4)中还设有两个第二辐射板(8)，两个所述第二辐射板(8)分别位于所述下行片材(7)的两侧，所述第一辐射板(6)和第二辐射板(8)的外表面均设有玻璃(9)，所述上行区(3)的两个第一辐射板(6)之间设有多个上下放置的测温装置(10)，所述下行区(4)的两个第二辐射板(8)之间也设有多个上下放置测温装置(10)。