[实用新型]用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置有效

专利信息
申请号: 201020250591.5 申请日: 2010-07-07
公开(公告)号: CN201785484U 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 刘杰;汪明刚;夏洋;李超波;罗威;罗小晨;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C14/48 分类号: C23C14/48
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置包括隔板A和隔板B,所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间,所述隔板A和隔板B相同,并可平行抽动;所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。通过抽动隔板装置可改变重合圆孔的大小,从而控制等离子体从掺杂源腔室向离子注入腔室的扩散速度,圆孔的分布又能控制等离子体在离子注入腔室中的分布,通过调节隔板装置可使等离子体均匀地扩散到离子注入腔室,从而最终实现大面积基片的均匀离子注入。
搜索关键词: 用于 双腔室 结构 等离子体 浸没 离子 注入 隔板 装置
【主权项】:
一种用于双腔室结构等离子体浸没离子注入的隔板装置,其特征在于,包括:隔板A和隔板B,所述隔板A和隔板B设置在离子注入腔室与掺杂源腔室之间,所述隔板A和隔板B相同,并可平行抽动;所述隔板A和隔板B分布着若干个圆孔。
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