[实用新型]一种硅片抛光装置有效
| 申请号： | 201020261767.7 | 申请日： | 2010-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN201711851U | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 库黎明;闫志瑞;索思卓;鲁进军;常青 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 郭佩兰 |
| 地址： | 100088*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种硅片抛光装置包括：垂直方向设置的、带动硅片进行旋转的游轮圈(3)、位于游轮圈左侧的、由左传动部分(2)带动的左抛光轮(1)，位于游轮圈右侧的、由右传动部分(5)带动的右抛光轮(4)，左、右抛光轮上分别贴有用于硅片抛光的抛光垫(7)，还有直接供应抛光液到抛光垫上的抛光液供给部分(27)。游轮圈带动硅片旋转，左右抛光轮同时向相对方向旋转，对硅片表面进行抛光。本实用新型的优点是该装置结构紧凑，硅片在抛光时处于垂直状态，硅片可以有效地避免因自重而引起的形变，同时更容易控制硅片表面的几何参数，能解决由于硅片尺寸的增大而带来的抛光问题，既提高了生产的效率，又提高了抛光片的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片抛光装置，其特征在于：它包括：垂直方向设置的、带动硅片进行旋转的游轮圈(3)、位于游轮圈左侧的、由左传动部分(2)带动的左抛光轮(1)，位于游轮圈右侧的、由右传动部分(5)带动的右抛光轮(4)，左、右抛光轮上分别贴有用于硅片抛光的抛光垫(7)，还有直接供应抛光液到抛光垫上的抛光液供给部分(27)。
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