[实用新型]一种工艺气体的输送法兰无效
申请号: | 201020269834.X | 申请日: | 2010-07-23 |
公开(公告)号: | CN201778112U | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 伍波;张勇;李时俊 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种工艺气体的输送法兰,其包括环形的法兰体、设于该法兰体内一侧的冷却水流道、设于该法兰体外缘的与冷却水流道一端口联通的进水管以及与其另一端口联通的出水管;还包括设于所述法兰体内另一侧的工艺气体流道、沿工艺气体流道内壁设置的并与法兰体内壁导通的一圈针孔、设于法兰体外缘的并与工艺气体流道联通的气嘴,设于法兰体的内圈、靠近冷却水流道一侧的密封圈。本实用新型将工艺气体通过法兰体针孔往石英管反应室内渗透,而不是采用传统的方式通过气嘴直接往里吹气。这使得工艺气体混合更加充分,在反应室内的分布更加均匀,也提高了反应室内气场的稳定性,很好地改善了硅片的镀膜效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 工艺 气体 输送 法兰 | ||
【主权项】:
一种工艺气体的输送法兰,其特征在于,包括环形的法兰体(1)、设于该法兰体内一侧的冷却水流道(2)、设于该法兰体外缘的与冷却水流道(2)一端口联通的进水管(3)以及与其另一端口联通的出水管(4);还包括设于所述法兰体(1)内另一侧的工艺气体流道(5)、沿工艺气体流道内壁设置的并与法兰体内壁导通的一圈针孔(6)、设于法兰体外缘的并与工艺气体流道(5)联通的气嘴(7),设于法兰体(1)的内圈、靠近冷却水流道(2)一侧的密封圈(15)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司,未经深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201020269834.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种提高收音机天线性能的装置
- 下一篇:一种食品袋的封装结构
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的