[实用新型]高强度抗绕二氧化碳激光器有效
| 申请号： | 201020273905.3 | 申请日： | 2010-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN201726033U | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 殷卫援 | 申请（专利权）人： | 成都微深科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/223 | 分类号： | H01S3/223;H01S3/03 |
| 代理公司： | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人： | 袁英 |
| 地址： | 611731 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种高强度抗绕二氧化碳激光器，在二氧化碳激光器的储气管(1)的表面，与轴向平行方向分布有至少二个凹槽(2)。本实用新型的有益效果是：在不改变二氧化碳激光器重量的基础上，间接增加了二氧化碳激光器的储气管(1)的厚度，达到增加二氧化碳激光器抗绕性能的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 强度 二氧化碳 激光器 | ||
【主权项】：
一种高强度抗绕二氧化碳激光器，其特征在于：所述的二氧化碳激光器的储气管(1)的表面与轴向平行方向分布有至少二个凹槽(2)。
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