[实用新型]低方阻金属化膜无效

专利信息
申请号: 201020277981.1 申请日: 2010-07-20
公开(公告)号: CN201765958U 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 郑铜明 申请(专利权)人: 铜陵科乐福新光电有限公司
主分类号: H01G4/005 分类号: H01G4/005;H01G4/015;H01G4/33
代理公司: 铜陵市天成专利事务所 34105 代理人: 程霏
地址: 244000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种低方阻金属化膜。通过镀膜机在介质上先蒸镀一层铝,然后在铝层基础上再蒸镀一层锌铝合金,其中锌占合金比重是30%,铝占合金的比重是70%,该锌铝厚度为所蒸镀的铝层厚度的6-8倍,宽度为1-5mm。主要利用铝在空气中易氧化的特性,在铝层基础上蒸镀锌铝合金,目的是为了提高金属化膜的抗氧化能力,也同时大大提高了金属化膜的耐压性能和自愈性能。
搜索关键词: 低方阻 金属化
【主权项】:
低方阻金属化膜,由聚丙烯介质层[1]和蒸镀在聚丙烯介质层[1]表面的铝层[2]组成,然后在铝层[2]上蒸镀上一层锌铝合金层[3],所述锌铝合金层[3]的材料为锌铝合金,其中锌占合金比重是30%,铝占合金的比重是70%,该锌铝合金层[3]厚度为所蒸镀的铝层厚度的6 8倍,宽度为1 5mm,其特征在于所述锌铝合金层[3]位于所述铝层[2]的中间位置,锌铝合金层[3]区域的方阻在3Ω/□以下。
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