[实用新型]低方阻金属化膜无效
申请号: | 201020277981.1 | 申请日: | 2010-07-20 |
公开(公告)号: | CN201765958U | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 郑铜明 | 申请(专利权)人: | 铜陵科乐福新光电有限公司 |
主分类号: | H01G4/005 | 分类号: | H01G4/005;H01G4/015;H01G4/33 |
代理公司: | 铜陵市天成专利事务所 34105 | 代理人: | 程霏 |
地址: | 244000 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种低方阻金属化膜。通过镀膜机在介质上先蒸镀一层铝,然后在铝层基础上再蒸镀一层锌铝合金,其中锌占合金比重是30%,铝占合金的比重是70%,该锌铝厚度为所蒸镀的铝层厚度的6-8倍,宽度为1-5mm。主要利用铝在空气中易氧化的特性,在铝层基础上蒸镀锌铝合金,目的是为了提高金属化膜的抗氧化能力,也同时大大提高了金属化膜的耐压性能和自愈性能。 | ||
搜索关键词: | 低方阻 金属化 | ||
【主权项】:
低方阻金属化膜,由聚丙烯介质层[1]和蒸镀在聚丙烯介质层[1]表面的铝层[2]组成,然后在铝层[2]上蒸镀上一层锌铝合金层[3],所述锌铝合金层[3]的材料为锌铝合金,其中锌占合金比重是30%,铝占合金的比重是70%,该锌铝合金层[3]厚度为所蒸镀的铝层厚度的6 8倍,宽度为1 5mm,其特征在于所述锌铝合金层[3]位于所述铝层[2]的中间位置,锌铝合金层[3]区域的方阻在3Ω/□以下。
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