[实用新型]电解铜箔后处理机无效
申请号: | 201020278581.2 | 申请日: | 2010-08-02 |
公开(公告)号: | CN201785518U | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 柴云;赵原森;薛宏伟;高松;白忠波;周建新 | 申请(专利权)人: | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 时立新 |
地址: | 472500 *** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本实用新型公开了一种电解铜箔后处理机,包括导电辊和牵引辊,在导电辊的上侧设有第一挤液辊,在所述导电辊的一侧靠接有第二挤液辊。本实用新型在单挤液辊的基础上增加一根挤液辊,增大了箔与导电辊的有效接触面积,增强其导电性能,减少铜离子在导电辊面的电沉积,同时双挤液辊可以弥补单挤液辊辊面不平所致的挤压箔面不均问题,有效控制了溶液的流失。对比以前的单挤液辊,A级率和合格率均得到提高,对应的废箔量下降。 | ||
搜索关键词: | 电解 铜箔 处理机 | ||
【主权项】:
电解铜箔后处理机,包括导电辊和牵引辊,在导电辊的上侧设有第一挤液辊,其特征在于:在所述导电辊的一侧靠接有第二挤液辊。
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