[实用新型]电解铜箔后处理机无效

专利信息
申请号: 201020278581.2 申请日: 2010-08-02
公开(公告)号: CN201785518U 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 柴云;赵原森;薛宏伟;高松;白忠波;周建新 申请(专利权)人: 灵宝华鑫铜箔有限责任公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 472500 *** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实用新型公开了一种电解铜箔后处理机,包括导电辊和牵引辊,在导电辊的上侧设有第一挤液辊,在所述导电辊的一侧靠接有第二挤液辊。本实用新型在单挤液辊的基础上增加一根挤液辊,增大了箔与导电辊的有效接触面积,增强其导电性能,减少铜离子在导电辊面的电沉积,同时双挤液辊可以弥补单挤液辊辊面不平所致的挤压箔面不均问题,有效控制了溶液的流失。对比以前的单挤液辊,A级率和合格率均得到提高,对应的废箔量下降。
搜索关键词: 电解 铜箔 处理机
【主权项】:
电解铜箔后处理机,包括导电辊和牵引辊,在导电辊的上侧设有第一挤液辊,其特征在于:在所述导电辊的一侧靠接有第二挤液辊。
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