[实用新型]用于直拉单晶硅炉的排气罩以及直拉单晶硅炉无效

专利信息
申请号: 201020285326.0 申请日: 2010-08-04
公开(公告)号: CN201835003U 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 史记全;郭凯;王海渤;雷浩 申请(专利权)人: 英利能源(中国)有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李玉秋;冯琼
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型提供一种排气上罩,包括:圆筒形的排气罩侧壁;在所述排气罩侧壁上设置有两个方向相反的排气孔。本实用新型提供的排气罩上设置有两个方向相反的排气孔,炉内的气体从所述两个排气孔内排出。与现有技术相比,由于排气孔的数目只有两个,因此炉内的气体流可以从这两个排气孔内稳定的排出,炉子内的气压变化稳定,气流稳定,因此不会出现紊流现象,而且不会出现气体粘附的问题,不会在硅单晶上形成杂质,有利于制备高纯度的单晶硅。此外,由于不会出现紊流现象,因此不会产生拉单晶过程中的液面抖动问题,从而不会对单晶硅的质量产生副作用。
搜索关键词: 用于 单晶硅 排气 以及
【主权项】:
一种用于直拉单晶硅炉的排气罩,其特征在于,包括:圆筒形的排气罩侧壁;在所述排气罩侧壁上设置有两个方向相反的排气孔。
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