[实用新型]多工位水钻斜面磨抛机无效
| 申请号： | 201020292032.0 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN201848745U | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 虞卫东 | 申请（专利权）人： | 浙江名媛工艺饰品有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/16 | 分类号： | B24B9/16 |
| 代理公司： | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人： | 王鹏举 |
| 地址： | 322000 浙江省义乌市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种多工位水钻斜面磨抛机，包括机架，机架上设有旋转架，旋转架通过旋转电机驱动旋转，所述旋转架上设有四个机头，所述机架上设有分别与四个机头相对应的磨削工位、抛光工位和上料工位、下料工位，所述磨削工位上设有磨削机构，所述抛光工位上设有抛光机构，所述旋转架通过定位机构进行旋转定位。本技术方案，采用“一磨一抛一上料一下料”四工位机形式，不仅可以达到产品加工要求，而且可以大大降低了机台成本，进一步提高了磨抛加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 多工位 水钻 斜面 磨抛机 | ||
【主权项】：
一种多工位水钻斜面磨抛机，包括机架(7)，机架(7)上设有旋转架(11)，旋转架(11)通过旋转电机(8)驱动旋转，其特征在于，所述旋转架(11)上设有四个机头(2)，所述机架(7)上设有分别与四个机头(2)相对应的磨削工位、抛光工位和上料工位(13)、下料工位(14)，所述磨削工位上设有磨削机构(12)，所述抛光工位上设有抛光机构(4)，所述旋转架(11)通过定位机构进行旋转定位。
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