[实用新型]满足近接施工条件的基坑围护结构无效
| 申请号： | 201020506665.7 | 申请日： | 2010-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN201762711U | 公开（公告）日： | 2011-03-16 |
| 发明（设计）人： | 丁勇春 | 申请（专利权）人： | 中交第三航务工程勘察设计院有限公司 |
| 主分类号： | E02D17/02 | 分类号： | E02D17/02;E02D5/20;E02D5/34 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 王玮 |
| 地址： | 200032 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种满足近接施工条件的基坑围护结构，包括若干个钻孔灌注桩，在所述钻孔灌注桩与既有结构物基础之间设有背向既有结构物的高压定向摆喷隔水帷幕，钻孔灌注桩桩顶设有顶圈梁，该顶圈梁与既有结构物基础间为混凝土实体填充。本实用新型结合钻孔灌注桩与三重管定向摆喷的特点，形成可紧邻既有结构物施工的集合钻孔灌注桩挡土功能与高压定向摆喷隔水功能于一体的基坑围护结构。 | ||
| 搜索关键词： | 满足 施工 条件 基坑 围护结构 | ||
【主权项】：
一种基坑围护结构，其特征是：包括若干个钻孔灌注桩(1)，在所述钻孔灌注桩(1)与既有结构物基础(5)之间设有背向既有结构物(5)的高压定向摆喷隔水帷幕(2)，钻孔灌注桩(1)桩顶设有顶圈梁(4)，顶圈梁(4)与既有结构物基础(5)间为混凝土实体填充(6)。
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