[实用新型]用于放置石墨框的缓冲板无效
申请号: | 201020517337.7 | 申请日: | 2010-09-02 |
公开(公告)号: | CN201793732U | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 代同光;孔慧;凌晔 | 申请(专利权)人: | 上海交大泰阳绿色能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于放置石墨框的缓冲板,涉及硅片镀膜技术领域,所解决的是提高取片效率及降低硅片镀膜层损伤率的技术问题。所述石墨框呈网格状,该缓冲板包括基板,及固定在基板上板面的与石墨框的各个网格相对应的多个凸块,每个凸块的上端面均高于基板的上板面,每个凸块的上端面均为倾斜于基板上板面的平面,且每个凸块的上端面至少有一条边为向内凹陷的凹边,每个凸块的上端面从凹边一侧朝向该凹边对侧方向向下倾斜;每个凸块高度较低一侧的高度低于石墨框的整体厚度,每个凸块高度较高一侧的高度高于石墨框的整体厚度。本实用新型提供的缓冲板,能提高操作人员的取片效率,降低对硅片镀膜层的损伤率。 | ||
搜索关键词: | 用于 放置 石墨 缓冲 | ||
【主权项】:
一种用于放置石墨框的缓冲板,所述石墨框呈网格状,该缓冲板包括基板,及固定在基板上板面的与石墨框的各个网格相对应的多个凸块,每个凸块的上端面均高于基板的上板面,其特征在于:每个凸块的上端面均为倾斜于基板上板面的平面,且每个凸块的上端面至少有一条边为向内凹陷的凹边,每个凸块的上端面从凹边一侧朝向该凹边对侧方向向下倾斜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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