[实用新型]一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚无效
| 申请号： | 201020534693.X | 申请日： | 2010-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN201842894U | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 杨业林;陈宝昌 | 申请（专利权）人： | 扬州华尔光电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B11/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 徐激波 |
| 地址： | 225600 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，包括基体、中间过渡层、第二中间层和内表面涂层，所述基体的内壁设有中间过渡层，中间过渡层上设有第二中间层，第二中间层上设有内表面涂层。本实用新型是根据石英坩埚在使用过程中高温加热的步骤和煅烧时间的长短，采用具有不同热学性能的涂层材料在石英坩埚基体上分层次进行涂层，来提高石英坩埚的抗侵蚀能力，达到降低硅与石英坩埚反应强度的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 多晶 制备 复合 涂层 石英 坩埚 | ||
【主权项】：
一种用于多晶硅锭制备的复合涂层石英坩埚，其特征在于：包括基体(1)、中间过渡层(2)、第二中间层(3)和内表面涂层(4)，所述基体(1)的内壁设有中间过渡层(2)，中间过渡层(2)上设有第二中间层(3)，第二中间层(3)上设有内表面涂层(4)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州华尔光电子材料有限公司，未经扬州华尔光电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201020534693.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：螺距变比丝攻装置
- 下一篇：带有硬化层的木塑与木皮复合板
