[实用新型]沉积舟无效
申请号: | 201020536544.7 | 申请日: | 2010-09-19 |
公开(公告)号: | CN201793733U | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 邵伟祥;裘立强 | 申请(专利权)人: | 扬州杰利半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/40 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 奚衡宝 |
地址: | 225008 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 沉积舟涉及LTO膜加工专用的沉积舟。既能保证气体进入舟体中,又能提高舟体强度的。包括外部轮廓为半圆柱体形的上盖和下盖,所述上盖和下盖的柱面上均布若干圆形通孔。本实用新型将以往长方形的槽该为圆形的通气孔,这样即保证了LTO膜厚的均匀度,也由于在舟上开孔的面积相对减少而提高了舟强度,进而提高了其的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 沉积 | ||
【主权项】:
沉积舟,包括外部轮廓为半圆柱体形的上盖和下盖,其特征在于,所述上盖和下盖的柱面上均布若干圆形通孔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的