[实用新型]流体抛光机有效
| 申请号： | 201020540046.X | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN201856159U | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 冯建平;李越;裘华刚;黄强;阮哲峰;李振华 | 申请（专利权）人： | 浙江海亮股份有限公司;绍兴金氏机械设备有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 胡根良 |
| 地址： | 311835 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了流体抛光机，包括机身、上模架、下模架及合模装置，上模架与下模架上分别设有研磨机构，所述研磨机构包括磨料缸筒及用于推动磨料缸筒内磨料运动的研磨缸，磨料缸筒固定在上模架与下模架上，工件通过合模装置夹持在上模架与下模架的两个磨料缸筒之间，上模架与下模架上的两个研磨缸推动磨料沿工件内壁上、下往复运动完成抛光。通过流体抛光加工的工件，其加工面的抛光痕迹与工件实际的流体导通方向是相一致的，有助于工件使用性能的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 抛光机 | ||
【主权项】：
流体抛光机，其特征在于：包括机身(1)、上模架(10)、下模架(11)及合模装置，上模架(10)与下模架(11)上分别设有研磨机构，所述研磨机构包括磨料缸筒(4)及用于推动磨料缸筒(4)内磨料运动的研磨缸，磨料缸筒(4)固定在上模架(10)与下模架(11)上，工件(9)通过合模装置夹持在上模架(10)与下模架(11)的两个磨料缸筒(4)之间，上模架(10)与下模架(11)上的两个研磨缸推动磨料沿工件(9)内壁上、下往复运动完成抛光。
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