[实用新型]高陡边坡上建筑物洞式基坑结构型式有效

专利信息
申请号: 201020570169.8 申请日: 2010-10-21
公开(公告)号: CN201873995U 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 李志谦;邓毅国;王毅鸣;苏岩;林健勇;李贺林;周飞平 申请(专利权)人: 中国水电顾问集团北京勘测设计研究院
主分类号: E02D17/02 分类号: E02D17/02
代理公司: 北京市盛峰律师事务所 11337 代理人: 李贺香
地址: 100024 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种涉及水利水电领域的高陡边坡上建筑物洞式基坑结构型式,该基坑结构型式是在所述的高陡边坡上、所述建筑物顶部高程处设置施工洞,所述的基坑的顶部设置在所述的施工洞内。本实用新型的基坑结构型式解决了现有的基坑结构型式施工过程中造成的工程安全隐患增多、开挖难度大、开挖和支护工程量大、开挖范围大、工程弃渣量多、对生态环境扰动和影响大等问题。
搜索关键词: 高陡边坡上 建筑物 基坑 结构 型式
【主权项】:
高陡边坡上建筑物洞式基坑结构型式,其特征在于:在所述的高陡边坡上、所述建筑物顶部高程(4)处设置施工洞(1),所述的基坑(5)的顶部设置在所述的施工洞(1)内。
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