[实用新型]往复式真空浸渗机无效
| 申请号： | 201020622650.7 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN201949984U | 公开（公告）日： | 2011-08-31 |
| 发明（设计）人： | 邓哓斌 | 申请（专利权）人： | 上海克兰密封件有限公司;邓晓斌 |
| 主分类号： | B05C3/10 | 分类号： | B05C3/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201812 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种浸渗机，特别涉及微孔修补，是一种在真空状态下浸渗的往复式真空浸渗机。本实用新型提供一种结构简单，制造成本低，且浸渍效果好的往复式真空浸渗机。一种往复式真空浸渗机，它包括基架，工作罐，密封盖，冷却管，所述的工作罐置于基架上，工作罐的底部装有浸渍液；所述的冷却管围绕在工作罐底部，密封盖位于基架顶端正对工作罐的罐口；在工作罐中设有放置镶装件的可控升降台；在工作罐的侧壁接有真空管道。利用可控升降台来控制镶装件的浮出和沉入渍浸液内，从而更加均匀的涂摸，进而保证了镶装件之间的部分也能被均匀浸透。 | ||
| 搜索关键词： | 往复 真空 浸渗机 | ||
【主权项】：
一种往复式真空浸渗机，它包括基架，工作罐，密封盖，冷却管，所述的工作罐置于基架上，工作罐的底部装有浸渍液；所述的冷却管围绕在工作罐底部，密封盖位于基架顶端正对工作罐的罐口；其特征在于：在工作罐中设有放置镶装件的可控升降台；在工作罐的侧壁接有真空管道。
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